Résumé
This document specifies the technical requirements for TiAlSiN thin films deposited by magnetron sputtering.
Informations générales
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État actuel: ProjetDate de publication: 2026-07Stade: Epreuve envoyée au secrétariat ou mise au vote du FDIS: 8 semaines [50.20]
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Edition: 1
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Comité technique :ISO/TC 107/SC 9ICS :25.220.40
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