Resumen
This document specifies the technical requirements for TiAlSiN thin films deposited by magnetron sputtering.
Informaciones generales
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Estado: En desarrolloFecha de publicación: 2026-07Etapa: Envío de la prueba a la secretaría o inicio de la votación del FDIS: 8 semanas [50.20]
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Edición: 1Número de páginas: 6
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Comité Técnico :ISO/TC 107/SC 9ICS :25.220.40
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