Proof
ISO/PRF 25164
Physical vapor deposition coatings — Magnetron sputtering deposition of TiAlSiN thin films — Specification
Reference number
ISO/PRF 25164
Edition 1
2026-07
© ISO 2026
Proof
недоступно на русском языке
В стадии разработки (Версия 1, 2026)
Проект данного международного стандарта находится на этапе утверждения.

Тезис

This document specifies the technical requirements for TiAlSiN thin films deposited by magnetron sputtering.

Общая информация

  • Текущий статус
     : В стадии разработки
    Дата публикации
     : 2026-07
    Этап
    : Уведомление направлено в секретариат. Начало голосования по окончательному проекту международного стандарта: 2 мес. [50.20]
  • Версия
     : 1
  • Технический комитет :
    ISO/TC 107/SC 9
    ICS :
    25.220.40 
  • RSS обновления

Жизненный цикл

Цели в области устойчивого развития

Данный стандарт разработан для достижения следующих Цель устойчивого развития

9
Индустриализация, инновации и инфраструктура

Появились вопросы?

Ознакомьтесь с FAQ

  2. Интернет-магазин
  3. Интернет-магазин
  4. МКС
  5. 25
  6. 25.220
  7. 25.220.40
  8. ISO/PRF 25164