Acheter cette norme

Résumé Prévisualiser

L'ISO 23812:2009 spécifie un mode opératoire permettant l'étalonnage de l'échelle de profondeur dans une région de faible profondeur, inférieure à 50 nm, lors du profilage en profondeur SIMS à l'aide de matériaux de référence à couches delta multiples.

Elle ne s'applique pas à la région transitoire superficielle où la vitesse de pulvérisation n'est pas en régime permanent.

Elle s'applique au silicium monocristallin, au silicium polycristallin et au silicium amorphe.


Informations générales

  • État actuel :  Publiée
    Date de publication : 2009-04
  • Edition : 1
    Nombre de pages : 19
  • Comité technique
    :
    ISO/TC 201/SC 6
    Spectrométrie de masse des ions secondaires
  • ICS :
    71.040.40
    Méthodes d'analyse chimique

Acheter cette norme

Format Langue
PDF
Papier
  • CHF118

Cycle de vie

Les normes ISO sont réexaminées tous les cinq ans



Révision / Rectificatifs techniques

  • Actuellement en cours d'examen
    ISO 23812:2009

Vous avez une question?

Consulter notre FAQ

Service à la clientèle
+41 22 749 08 88

Horaires d’ouverture:
De lundi à vendredi - 09:00-12:00, 14:00-17:00 (UTC+1)

Suivez l'actualité de l'ISO

Inscrivez-vous à notre Newsletter (en anglais) pour suivre nos actualités, points de vue et informations sur nos produits.