ISO 23812:2009 Prévisualiser

Analyse chimique des surfaces -- Spectrométrie de masse des ions secondaires -- Méthode pour l'étalonnage de la profondeur pour le silicium à l'aide de matériaux de référence à couches delta multiples

L'ISO 23812:2009 spécifie un mode opératoire permettant l'étalonnage de l'échelle de profondeur dans une région de faible profondeur, inférieure à 50 nm, lors du profilage en profondeur SIMS à l'aide de matériaux de référence à couches delta multiples.

Elle ne s'applique pas à la région transitoire superficielle où la vitesse de pulvérisation n'est pas en régime permanent.

Elle s'applique au silicium monocristallin, au silicium polycristallin et au silicium amorphe.


Informations générales

  • État actuel :  Publiée
    Date de publication : 2009-04
  • Edition : 1
    Nombre de pages : 19
  • :
    ISO/TC 201/SC 6
    Spectrométrie de masse des ions secondaires
  • 71.040.40
    Méthodes d'analyse chimique

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