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ISO 17331:2004 specifies chemical methods for the collection of iron and/or nickel from the surface of silicon-wafer working reference materials by the vapour-phase decomposition method or the direct acid droplet decomposition method.

It applies to iron and/or nickel atomic surface densities from 6 times 10 to the power 9 atoms per square centimetre to 5 times 10 to the power 11 atoms per square centimetre.


Informations générales

  • État actuel :  Publiée
    Date de publication : 2004-05
  • Edition : 1
  • :
    ISO/TC 201
    Analyse chimique des surfaces
  • 71.040.40
    Méthodes d'analyse chimique

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