ISO 17331:2004 Предпросмотр

Surface chemical analysis -- Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy

недоступно на русском языке

ISO 17331:2004 specifies chemical methods for the collection of iron and/or nickel from the surface of silicon-wafer working reference materials by the vapour-phase decomposition method or the direct acid droplet decomposition method.

It applies to iron and/or nickel atomic surface densities from 6 times 10 to the power 9 atoms per square centimetre to 5 times 10 to the power 11 atoms per square centimetre.


Общая информация

  • Текущий статус :  Published
    Дата публикации : 2004-05
  • Версия : 1
    Число страниц : 18
  • :
    ISO/TC 201
    Surface chemical analysis
  • 71.040.40
    Chemical analysis

Приобрести данный стандарт

Формат Язык
PDF
Бумажный
  • CHF88

Жизненны цикл

Стандарт, который пересматривается каждые 5 лет



Изменения / Исправления

  • Сейчас на стадии пересмотра
    ISO 17331:2004
  • Исправления/Изменения
    ISO 17331:2004/Amd 1:2010

Появились вопросы?

Ознакомьтесь с FAQ

Работа с клиентами
+41 22 749 08 88

Часы работы:
Понедельник – пятница: 09:00-12:00, 14:00-17:00 (UTC+1)

Будьте в курсе актуальных новостей ИСО

Подписывайтесь на наши новости, обзоры, а также на информацию о продуктах

 Subscribe