недоступно на русском языке

Тезис

 Предпросмотр

ISO 14706:2014 specifies a TXRF method for the measurement of the atomic surface density of elemental contamination on chemomechanically polished or epitaxial silicon wafer surfaces. The method is applicable to the following: elements of atomic number from 16 (S) to 92 (U); contamination elements with atomic surface densities from 1 × 1010 atoms/cm2 to 1 × 1014 atoms/cm2; contamination elements with atomic surface densities from 5 × 108 atoms/cm2 to 5 × 1012 atoms/cm2 using a VPD (vapour-phase decomposition) specimen preparation method.


Общая информация 

  • Текущий статус
     :  Published
    Дата публикации
     : 2014-08
  • Версия
     : 2
  • Технический комитет
     : ISO/TC 201 Surface chemical analysis
  • ICS
     :
    71.040.40 Chemical analysis

Цели в области устойчивого развития

Данный стандарт разработан для достижения следующих Цели в области устойчивого развития:

7
Недорогостоящая и чистая энергия
9
Индустриализация, инновации и инфраструктура

Приобрести данный стандарт

Формат Язык
PDF + ePub
Бумажный
  • CHF124

Жизненный цикл


Появились вопросы?

Ознакомьтесь с FAQ

Работа с клиентами
+41 22 749 08 88

Часы работы:
Понедельник – пятница: 09:00-12:00, 14:00-17:00 (UTC+1)

Будьте в курсе актуальных новостей ИСО

Подписывайтесь на наши новости, обзоры, а также на информацию о продуктах.

  2. Интернет-магазин
  3. Каталог стандартов
  4. МКС
  5. 71
  6. 71.040
  7. 71.040.40
  8. ISO 14706:2014