ISO 14237:2010 Предпросмотр

Surface chemical analysis -- Secondary-ion mass spectrometry -- Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials

недоступно на русском языке

ISO 14237:2010 specifies a secondary-ion mass spectrometric method for the determination of boron atomic concentration in single-crystalline silicon using uniformly doped materials calibrated by a certified reference material implanted with boron. This method is applicable to uniformly doped boron in the concentration range from 1 x 1016 atoms/cm3 to 1 x 1020 atoms/cm3.


Общая информация

  • Текущий статус :  Published
    Дата публикации : 2010-07
  • Версия : 2
    Число страниц : 19
  • :
    ISO/TC 201/SC 6
    Secondary ion mass spectrometry
  • 71.040.40
    Chemical analysis

Приобрести данный стандарт

Формат Язык
PDF
Бумажный
  • CHF118

Жизненны цикл

Стандарт, который пересматривается каждые 5 лет



Изменения / Исправления

  • Ранее
    ISO 14237:2000
  • Не подтверждено
    ISO 14237:2010

Появились вопросы?

Ознакомьтесь с FAQ

Работа с клиентами
+41 22 749 08 88

Часы работы:
Понедельник – пятница: 09:00-12:00, 14:00-17:00 (UTC+1)

Будьте в курсе актуальных новостей ИСО

Подписывайтесь на наши новости, обзоры, а также на информацию о продуктах

Subscribe