ISO 16531:2013 Предпросмотр

Surface chemical analysis -- Depth profiling -- Methods for ion beam alignment and the associated measurement of current or current density for depth profiling in AES and XPS

недоступно на русском языке

ISO 16531:2013 specifies methods for the alignment of the ion beam to ensure good depth resolution in sputter depth profiling and optimal cleaning of surfaces when using inert gas ions in Auger electron spectroscopy and X-ray photoelectron spectroscopy. These methods are of two types: one involves a Faraday cup to measure the ion current; the other involves imaging methods. The Faraday cup method also specifies the measurements of current density and current distributions in ion beams. The methods are applicable for ion guns with beams with a spot size below ~1 mm in diameter. The methods do not include depth resolution optimization.


Общая информация

  • Текущий статус :  Published
    Дата публикации : 2013-06
  • Версия : 1
    Число страниц : 18
  • :
    ISO/TC 201/SC 4
    Depth profiling
  • 71.040.40
    Chemical analysis

Приобрести данный стандарт

Формат Язык
PDF + ePub
Бумажный
  • CHF88

Жизненны цикл

Стандарт, который пересматривается каждые 5 лет



Изменения / Исправления

  • Сейчас на стадии пересмотра
    ISO 16531:2013
  • Будет заменено
    ISO/NP 16531

Появились вопросы?

Ознакомьтесь с FAQ

Работа с клиентами
+41 22 749 08 88

Часы работы:
Понедельник – пятница: 09:00-12:00, 14:00-17:00 (UTC+1)

Будьте в курсе актуальных новостей ИСО

Подписывайтесь на наши новости, обзоры, а также на информацию о продуктах

 Subscribe