Reference number
ISO 21466:2019
© ISO 2026
International Standard
ISO 21466:2019
Microbeam analysis — Scanning electron microscopy — Method for evaluating critical dimensions by CD-SEM
Edition 1
2019-12
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No disponible en español
Publicado (Edición 1, 2019)
Esta publicación se revisó y confirmó por última vez en 2025. Por lo tanto, esta versión es la actual.

ISO 21466:2019

Idioma
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Resumen

This document specifies the structure model with related parameters, file format and fitting procedure for characterizing critical dimension (CD) values for wafer and photomask by imaging with a critical dimension scanning electron microscope (CD-SEM) by the model-based library (MBL) method. The method is applicable to linewidth determination for specimen, such as, gate on wafer, photomask, single isolated or dense line feature pattern down to size of 10 nm.

Informaciones generales

  • Estado
     : Publicado
    Fecha de publicación
     : 2019-12
    Etapa
    : Norma Internacional confirmada [90.93]
  • Edición
     : 1
    Número de páginas
     : 47
  • Comité Técnico :
    ISO/TC 202/SC 4
    ICS :
    37.020 
  • RSS actualizaciones

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