Подписаться на обновления
ISO/DIS 14706
Surface chemical analysis -- Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
-
Издание: 2 (Одноязычное) МКС: 71.040.40 Статус: В разработке Стадия: 40.00 (2013-05-15) ТК/ПК: ISO/TC 201 Количество страниц: 23 -
Предыдущая редакция : ISO 14706:2000
