Y compris analyse des gaz et analyse chimique des surfaces
Documents à afficher:
| Norme et/ou projet | Stade | TC |
|---|---|---|
| ISO 78-2:1999 Chimie -- Plans de normes -- Partie 2: Méthodes d'analyse chimique | 90.93 | ISO/TC 47/SC 1 |
| ISO 758:1976 Produits chimiques liquides à usage industriel -- Détermination de la masse volumique à 20 degrés C | 90.93 | ISO/TC 47 |
| ISO 759:1981 Liquides organiques volatils à usage industriel -- Détermination du résidu sec après évaporation sur bain d'eau -- Méthode générale | 90.93 | ISO/TC 47/SC 1 |
| ISO 760:1978 Dosage de l'eau -- Méthode de Karl Fischer (Méthode générale) | 90.93 | ISO/TC 47/SC 1 |
| ISO 918:1983 Liquides organiques volatils à usage industriel -- Détermination des caractéristiques de distillation | 90.93 | ISO/TC 47 |
| ISO 2590:1973 Méthode générale de dosage de l'arsenic -- Méthode photométrique au diéthyldithiocarbamate d'argent | 90.93 | ISO/TC 47/SC 1 |
| ISO 2718:1974 Plan normalisé de méthode d'analyse chimique par chromatographie en phase gazeuse | 90.93 | ISO/TC 47/SC 1 |
| ISO 3165:1976 Échantillonnage des produits chimiques à usage industriel -- Sécurité dans l'échantillonnage | 90.93 | ISO/TC 47 |
| ISO 5790:1979 Produits chimiques inorganiques à usage industriel -- Méthode générale de dosage des chlorures -- Méthode mercurimétrique | 90.93 | ISO/TC 47/SC 1 |
| ISO 6141:2000 Analyse des gaz -- Prescriptions relatives aux certificats de gaz et mélanges de gaz pour étalonnage | 90.92 | ISO/TC 158 |
| ISO/CD 6141 Analyse des gaz -- Prescriptions relatives aux certificats de gaz et mélanges de gaz pour étalonnage | 30.99 | ISO/TC 158 |
| ISO/CD 6142 Analyse des gaz -- Préparation des mélanges de gaz pour étalonnage -- Méthode gravimétrique | 30.60 | ISO/TC 158 |
| ISO 6142:2001 Analyse des gaz -- Préparation des mélanges de gaz pour étalonnage -- Méthode gravimétrique | 90.92 | ISO/TC 158 |
| ISO 6142:2001/Amd 1:2009 Introduction de liquides | 60.60 | ISO/TC 158 |
| ISO 6143:2001 Analyse des gaz -- Méthodes comparatives pour la détermination et la vérification de la composition des mélanges de gaz pour étalonnage | 90.93 | ISO/TC 158 |
| ISO 6144:2003 Analyse des gaz -- Préparation des mélanges de gaz pour étalonnage -- Méthode volumétrique statique | 90.93 | ISO/TC 158 |
| ISO 6145-1:2003 Analyse des gaz -- Préparation des mélanges de gaz pour étalonnage à l'aide de méthodes volumétriques dynamiques -- Partie 1: Méthodes d'étalonnage | 90.92 | ISO/TC 158 |
| ISO 6145-2:2001 Analyse des gaz -- Préparation des mélanges de gaz pour étalonnage à l'aide de méthodes volumétriques dynamiques -- Partie 2: Pompes volumétriques | 90.92 | ISO/TC 158 |
| ISO/DIS 6145-2 Analyse des gaz -- Préparation des mélanges de gaz pour étalonnage à l'aide de méthodes volumétriques dynamiques -- Partie 2: Pompes volumétriques | 40.00 | ISO/TC 158 |
| ISO 6145-4:2004 Analyse des gaz -- Préparation des mélanges de gaz pour étalonnage à l'aide de méthodes volumétriques dynamiques -- Partie 4: Méthode continue par seringue d'injection | 90.93 | ISO/TC 158 |
| ISO 6145-5:2009 Analyse des gaz -- Préparation des mélanges de gaz pour étalonnage à l'aide de méthodes volumétriques dynamiques -- Partie 5: Dispositifs d'étalonnage par capillaires | 60.60 | ISO/TC 158 |
| ISO 6145-6:2003 Analyse des gaz -- Préparation des mélanges de gaz pour étalonnage à l'aide de méthodes volumétriques dynamiques -- Partie 6: Orifices critiques | 90.92 | ISO/TC 158 |
| ISO/WD 6145-6 Analyse des gaz -- Préparation des mélanges de gaz pour étalonnage à l'aide de méthodes volumétriques dynamiques -- Partie 6: Orifices critiques | 20.20 | ISO/TC 158 |
| ISO 6145-7:2009 Analyse des gaz -- Préparation des mélanges de gaz pour étalonnage à l'aide de méthodes volumétriques dynamiques -- Partie 7: Régulateurs thermiques de débit massique | 60.60 | ISO/TC 158 |
| ISO 6145-8:2005 Analyse des gaz -- Préparation des mélanges de gaz pour étalonnage à l'aide de méthodes volumétriques dynamiques -- Partie 8: Méthode par diffusion | 90.93 | ISO/TC 158 |
| ISO 6145-9:2009 Analyse des gaz -- Préparation des mélanges de gaz pour étalonnage à l'aide de méthodes volumétriques dynamiques -- Partie 9: Méthode par saturation | 60.60 | ISO/TC 158 |
| ISO 6145-10:2002 Analyse des gaz -- Préparation des mélanges de gaz pour étalonnage à l'aide de méthodes volumétriques dynamiques -- Partie 10: Méthode par perméation | 90.93 | ISO/TC 158 |
| ISO 6145-11:2005 Analyse des gaz -- Préparation des mélanges de gaz pour étalonnage à l'aide de méthodes volumétriques dynamiques -- Partie 11: Génération électrochimique | 90.93 | ISO/TC 158 |
| ISO 6206:1979 Produits chimiques à usage industriel -- Échantillonnage -- Vocabulaire | 90.93 | ISO/TC 47 |
| ISO 6227:1982 Produits chimiques à usage industriel -- Méthode générale de dosage des ions chlorure -- Méthode potentiométrique | 90.93 | ISO/TC 47/SC 1 |
| ISO 6228:1980 Produits chimiques à usage industriel -- Méthode générale de dosage, à l'état de sulfate, de traces de composés soufrés, par réduction et titrimétrie | 90.93 | ISO/TC 47/SC 1 |
| ISO 6382:1981 Méthode générale de dosage du silicium -- Méthode spectrophotométrique au molybdosilicate réduit | 90.93 | ISO/TC 47/SC 1 |
| ISO 6685:1982 Produits chimiques à usage industriel -- Méthode générale de dosage du fer -- Méthode spectrophotométrique à la phénanthroline-1,10 | 90.93 | ISO/TC 47/SC 1 |
| ISO 7504:2001 Analyse des gaz -- Vocabulaire | 90.92 | ISO/TC 158 |
| ISO/CD 7504 Analyse des gaz -- Vocabulaire | 30.60 | ISO/TC 158 |
| ISO 8213:1986 Produits chimiques à usage industriel -- Techniques de l'échantillonnage -- Produits chimiques solides de petite granulométrie et agglomérats grossiers | 90.93 | ISO/TC 47 |
| ISO 10810:2010 Analyse chimique des surfaces -- Spectroscopie de photoélectrons par rayons X -- Lignes directrices pour l'analyse | 60.60 | ISO/TC 201/SC 7 |
| ISO 11039:2012 Analyse chimique des surfaces -- Microscopie par sonde à balayage -- Mesurage du taux de dérive | 60.60 | ISO/TC 201/SC 9 |
| ISO 11505:2012 Analyse chimique des surfaces -- Modes opératoires généraux pour le profilage en profondeur compositionnel quantitatif par spectrométrie d'émission optique à décharge luminescente | 60.60 | ISO/TC 201/SC 8 |
| ISO/CD 11775 Analyse chimique des surfaces -- Microscopie à balayage de sonde -- Détermination de constantes normales en porte-à-faux de ressort | 30.99 | ISO/TC 201/SC 9 |
| ISO/DIS 11952 Analyse chimique des surfaces -- Microscopie à sonde à balayage -- Détermination des quantités géométriques en utilisant des microscopes à sonde à balayage: Étalonnage des systèmes de mesure | 40.99 | ISO/TC 201/SC 9 |
| ISO 12406:2010 Analyse chimique des surfaces -- Spectrométrie de masse des ions secondaires -- Dosage de l'arsenic dans le silicium par profilage d'épaisseur | 60.60 | ISO/TC 201/SC 6 |
| ISO/CD 12963 Analyse de gaz -- Protocoles de mesure et techniques d'évaluation de données pour applications analytiques générales | 30.60 | ISO/TC 158 |
| ISO/DIS 13083 Norme sur la définition et de l'étalonnage de la résolution spatiale des microscopes à sonde à balayage électrique (ESPMs), tels que SSRM et SCM pour l'imagerie 2D des dopants et pour d'autres fins | 40.20 | ISO/TC 201/SC 9 |
| ISO 13084:2011 Analyse chimique des surfaces -- Spectrométrie de masse des ions secondaires -- Étalonnage de l'échelle de masse pour un spectromètre de masse des ions secondaires à temps de vol | 60.60 | ISO/TC 201/SC 6 |
| ISO/DIS 13095 Analyse chimique des surfaces -- Microscopie à balayage de sonde -- Procédure pour la caractérisation in situ des sondes AFM utilisées pour mesurer la nanostructure | 40.00 | ISO/TC 201/SC 9 |
| ISO/WD TR 13096 Analyse chimique des surfaces -- Microscopie à balayage de sonde -- Guide pour décrire les propriétés de la sonde AFM | 20.20 | ISO/TC 201/SC 9 |
| ISO/PRF 13424 Analyse chimique des surfaces -- Spectroscopie de photoélectrons X -- Rapport des résultats de l'analyse de films minces | 50.00 | ISO/TC 201/SC 7 |
| ISO/TS 14167:2003 Analyse des gaz -- Aspects généraux de l'assurance qualité dans l'utilisation de mélanges de gaz pour étalonnage -- Lignes directrices | 90.92 | ISO/TC 158 |
| ISO/TR 14187:2011 Analyse chimique des surfaces - Caractérisation des matériaux nanostructurés | 60.60 | ISO/TC 201/SC 7 |
| ISO 14237:2010 Analyse chimique des surfaces -- Spectrométrie de masse des ions secondaires -- Dosage des atomes de bore dans le silicium à l'aide de matériaux dopés uniformément | 60.60 | ISO/TC 201/SC 6 |
| ISO 14606:2000 Analyse chimique des surfaces -- Profilage d'épaisseur par bombardement -- Optimisation à l'aide de systèmes mono- ou multicouches comme matériaux de référence | 90.92 | ISO/TC 201/SC 4 |
| ISO/DIS 14606 Analyse chimique des surfaces -- Profilage d'épaisseur par bombardement -- Optimisation à l'aide de systèmes mono- ou multicouches comme matériaux de référence | 40.99 | ISO/TC 201/SC 4 |
| ISO 14701:2011 Analyse chimique des surfaces -- Spectroscopie de photoélectrons par rayons X -- Mesurage de l'épaisseur d'oxyde de silicium | 60.60 | ISO/TC 201/SC 7 |
| ISO/DIS 14706 Analyse chimique des surfaces -- Détermination de la contamination en éléments à la surface des tranches de silicium par spectroscopie de fluorescence X à réflexion totale | 40.00 | ISO/TC 201 |
| ISO 14706:2000 Analyse chimique des surfaces -- Détermination de la contamination en éléments à la surface des tranches de silicium par spectroscopie de fluorescence X à réflexion totale | 90.92 | ISO/TC 201 |
| ISO/WD 14707 Analyse chimique des surfaces -- Spectrométrie d'émission optique à décharge luminescente -- Introduction à son emploi | 20.20 | ISO/TC 201/SC 8 |
| ISO 14707:2000 Analyse chimique des surfaces -- Spectrométrie d'émission optique à décharge luminescente -- Introduction à son emploi | 90.92 | ISO/TC 201/SC 8 |
| ISO 14912:2003 Analyse des gaz -- Conversion des données de composition de mélanges gazeux | 90.93 | ISO/TC 158 |
| ISO 14912:2003/Cor 1:2006 | 60.60 | ISO/TC 158 |
| ISO 14975:2000 Analyse chimique des surfaces -- Protocoles de l'information | 90.93 | ISO/TC 201/SC 3 |
| ISO 14976:1998 Analyse chimique des surfaces -- Protocole pour le transfert des données | 90.93 | ISO/TC 201/SC 3 |
| ISO/TS 15338:2009 Analyse chimique des surfaces -- Spectrométrie de masse à décharge luminescente (GD-MS) -- Introduction à l'utilisation | 90.93 | ISO/TC 201/SC 8 |
| ISO 15470:2004 Analyse chimique des surfaces -- Spectroscopie de photoélectrons X -- Description de certains paramètres relatifs à la performance instrumentale | 90.93 | ISO/TC 201/SC 7 |
| ISO 15471:2004 Analyse chimique des surfaces -- Spectroscopie d'électrons Auger -- Description de certains paramètres relatifs à la performance instrumentale | 90.93 | ISO/TC 201/SC 7 |
| ISO 15472:2010 Analyse chimique des surfaces -- Spectromètres de photoélectrons X -- Étalonnage en énergie | 60.60 | ISO/TC 201/SC 7 |
| ISO 15796:2005 Analyse des gaz -- Investigation et traitement des biais analytiques | 90.93 | ISO/TC 158 |
| ISO/TR 15969:2001 Analyse chimique des surfaces -- Profilage d'épaisseur -- Mesurage de l'épaisseur bombardée | 60.60 | ISO/TC 201/SC 4 |
| ISO 16129:2012 Analyse chimique des surfaces -- Spectroscopie de photoélectrons X -- Modes opératoires d'évaluation de la performance au jour le jour d'un spectromètre de photoélectrons X | 60.60 | ISO/TC 201/SC 7 |
| ISO 16242:2011 Analyse chimique des surfaces -- Enregistrement et notification des données en spectroscopie des électrons Auger (AES) | 60.60 | ISO/TC 201/SC 2 |
| ISO 16243:2011 Analyse chimique des surfaces -- Enregistrement et notification des données en spectroscopie de photoélectrons par rayons X (XPS) | 60.60 | ISO/TC 201/SC 2 |
| ISO/TR 16268:2009 Analyse chimique des surfaces -- Mode opératoire proposé pour certifier la dose aréique retenue dans un matériau de référence de travail produit par implantation d'ions | 60.60 | ISO/TC 201/SC 2 |
| ISO 16413:2013 Évaluation de l'épaisseur, de la densité et de la largeur de l'interface des films fins par réflectrométrie de rayons X -- Exigences instrumentales, alignement et positionnement, rassemblement des données, analyse des données et rapport | 60.60 | ISO/TC 201 |
| ISO 16531:2013 Analyse chimique des surfaces -- Profilage d'épaisseur -- Méthodes d'alignement du faisceau d'ions et la mesure associée de densité de courant ou de courant pour le profilage d'épaisseur en AES et XPS | 60.60 | ISO/TC 201/SC 4 |
| ISO 16664:2004 Analyse des gaz -- Manutention des gaz et des mélanges de gaz pour étalonnage -- Lignes directrices | 90.93 | ISO/TC 158 |
| ISO 16962:2005 Analyse chimique des surfaces -- Analyse des revêtements métalliques à base de zinc et/ou d'aluminium par spectrométrie d'émission optique à décharge luminescente | 90.93 | ISO/TC 201/SC 8 |
| ISO/WD 17109 Analyse chimique des surfaces -- Profilage d'épaisseur -- Méthode pour la détermination de la vitesse de pulvérisation lors du profilage d'épaisseur par pulvérisation en spectroscopie de photoélectrons par rayons X, spectroscopie d'électrons Auger et spectrométrie de masse des ions secondaires à l'aide de films minces multicouches | 20.60 | ISO/TC 201/SC 4 |
| ISO 17331:2004 Analyse chimique des surfaces -- Méthodes chimiques pour collecter les éléments analysés de tranches de silicium comme matériaux de référence pour l'analyse par spectroscopie de fluorescence X en réflexion totale (TXRF) | 90.20 | ISO/TC 201 |
| ISO 17331:2004/Amd 1:2010 | 60.60 | ISO/TC 201 |
| ISO 17560:2002 Analyse chimique des surfaces -- Spectrométrie de masse des ions secondaires -- Dosage du bore dans le silicium par profilage d'épaisseur | 90.20 | ISO/TC 201/SC 6 |
| ISO/DIS 17862 Analyse chimique des surfaces -- Spectrométrie de masse des ions secondaires -- Linéarité de l'échelle d'intensité des analyseurs de masse à temps de vol pour comptage des ions individuels | 40.00 | ISO/TC 201/SC 6 |
| ISO 17973:2002 Analyse chimique des surfaces -- Spectromètres d'électrons Auger à résolution moyenne -- Étalonnage des échelles d'énergie pour l'analyse élémentaire | 90.93 | ISO/TC 201/SC 7 |
| ISO 17974:2002 Analyse chimique des surfaces -- Spectromètres d'électrons Auger à haute résolution -- Étalonnage des échelles d'énergie pour l'analyse élémentaire et de l'état chimique | 90.93 | ISO/TC 201/SC 7 |
| ISO/WD 17980 Analyse chimique des surfaces -- Méthodes de caractérisation pour mesurer les propriétés des biomatériaux et bio-interactions correspondantes | 20.60 | ISO/TC 201 |
| ISO 18114:2003 Analyse chimique des surfaces -- Spectrométrie de masse des ions secondaires -- Détermination des facteurs de sensibilité relative à l'aide de matériaux de référence à ions implantés | 90.93 | ISO/TC 201/SC 6 |
| ISO/FDIS 18115-1 Analyse chimique des surfaces -- Vocabulaire -- Partie 1: Termes généraux et termes utilisés en spectroscopie | 50.00 | ISO/TC 201/SC 1 |
| ISO 18115-1:2010 Analyse chimique des surfaces -- Vocabulaire -- Partie 1: Termes généraux et termes utilisés en spectroscopie | 90.92 | ISO/TC 201/SC 1 |
| ISO 18115-2:2010 Analyse chimique des surfaces -- Vocabulaire -- Partie 2: Termes utilisés en microscopie à sonde à balayage | 90.92 | ISO/TC 201/SC 1 |
| ISO/FDIS 18115-2 Analyse chimique des surfaces -- Vocabulaire -- Partie 2: Termes utilisés en microscopie à sonde à balayage | 50.00 | ISO/TC 201/SC 1 |
| ISO 18116:2005 Analyse chimique des surfaces -- Lignes directrices pour la préparation et le montage des échantillons destinés à l'analyse | 90.93 | ISO/TC 201/SC 2 |
| ISO 18117:2009 Analyse chimique des surfaces -- Manipulation des échantillons avant analyse | 60.60 | ISO/TC 201/SC 2 |
| ISO 18118:2004 Analyse chimique des surfaces -- Spectroscopie des électrons Auger et spectroscopie de photoélectrons -- Lignes directrices pour l'utilisation de facteurs expérimentaux de sensibilité relative pour l'analyse quantitative de matériaux homogènes | 90.93 | ISO/TC 201/SC 7 |
| ISO/WD 18337 Titre manque | 20.20 | ISO/TC 201 |
| ISO/TR 18392:2005 Analyse chimique des surfaces -- Spectroscopie de photoélectrons X -- Protocoles pour déterminer les fonds continus | 60.60 | ISO/TC 201/SC 7 |
| ISO/TR 18394:2006 Analyse chimique des surfaces -- Spectroscopie des électrons Auger -- Déduction de l'information chimique | 60.60 | ISO/TC 201/SC 7 |
| ISO/WD TS 18507 Analyse chimique des surfaces - Spécification technique pour l'utilisation de réflexion spectroscopie des rayons X de fluorescence totale dans l'analyse biologique et de l'environnement | 20.20 | ISO/TC 201 |
| ISO 18516:2006 Analyse chimique des surfaces -- Spectroscopie d'électrons Auger et spectroscopie de photoélectrons de rayons X -- Détermination de la résolution latérale | 90.92 | ISO/TC 201/SC 2 |
| ISO 19318:2004 Analyse chimique des surfaces -- Spectroscopie de photoélectrons -- Indication des méthodes mises en oeuvre pour le contrôle et la correction de la charge | 90.93 | ISO/TC 201/SC 7 |
| ISO/TR 19319:2013 Analyse chimique des surfaces -- Approche fondamentale pour la détermination de la résolution latérale et de la netteté par des méthodes à base de faisceau | 60.60 | ISO/TC 201/SC 2 |
| ISO 20341:2003 Analyse chimique des surfaces -- Spectrométrie de masse des ions secondaires -- Méthode d'estimation des paramètres de résolution en profondeur à l'aide de matériaux de référence multicouches minces | 90.93 | ISO/TC 201/SC 6 |
| ISO 20903:2011 Analyse chimique des surfaces -- Spectroscopie des électrons Auger et spectroscopie de photoélectrons par rayons X -- Méthodes utilisées pour la détermination de l'intensité des pics et informations requises pour l'expression des résultats | 60.60 | ISO/TC 201/SC 7 |
| ISO 21079-1:2008 Analyse chimique des matériaux réfractaires contenant de l'alumine, de la zircone et de la silice -- Matériaux réfractaires contenant de 5 % à 45 % de ZrO2 (méthode alternative à la méthode par fluorescence de rayons X) -- Partie 1: Appareillage, réactifs et dissolution | 90.93 | ISO/TC 33 |
| ISO 21079-2:2008 Analyse chimique des matériaux réfractaires contenant de l'alumine, de la zircone et de la silice -- Matériaux réfractaires contenant de 5 % à 45 % de ZrO2 (méthode alternative à la méthode par fluorescence de rayons X) -- Partie 2: Méthodes d'analyse chimique par voie humide | 90.93 | ISO/TC 33 |
| ISO 21079-3:2008 Analyse chimique des matériaux réfractaires contenant de l'alumine, de la zircone et de la silice -- Matériaux réfractaires contenant de 5 % à 45 % de ZrO2 (méthode alternative à la méthode par fluorescence de rayons X) -- Partie 3: Méthodes par spectrométrie d'absorption atomique dans la flamme (FAAS) et spectrométrie d'émission atomique avec plasma induit par haute fréquence (ICP-AES) | 90.93 | ISO/TC 33 |
| ISO 21270:2004 Analyse chimique des surfaces -- Spectromètres de photoélectrons X et d'électrons Auger -- Linéarité de l'échelle d'intensité | 90.93 | ISO/TC 201/SC 7 |
| ISO 22048:2004 Analyse chimique des surfaces -- Protocole de l'information pour la spectrométrie de masse des ions secondaires (SIMS) en mode statique | 90.93 | ISO/TC 201/SC 3 |
| ISO/TR 22335:2007 Analyse chimique des surfaces -- Profilage en profondeur -- Mesurage de la vitesse de pulvérisation: méthode par empreinte de grille au moyen d'un profilomètre à stylet mécanique | 60.60 | ISO/TC 201/SC 4 |
| ISO 23812:2009 Analyse chimique des surfaces -- Spectrométrie de masse des ions secondaires -- Méthode pour l'étalonnage de la profondeur pour le silicium à l'aide de matériaux de référence à couches delta multiples | 60.60 | ISO/TC 201/SC 6 |
| ISO 23830:2008 Analyse chimique des surfaces -- Spectrométrie de masse des ions secondaires -- Répétabilité et constance de l'échelle des intensités relatives en spectrométrie statique de masse des ions secondaires | 90.93 | ISO/TC 201/SC 6 |
| ISO 24236:2005 Analyse chimique des surfaces -- Spectroscopie des électrons Auger -- Répétabilité et constance de l'échelle d'énergie | 90.93 | ISO/TC 201/SC 7 |
| ISO 24237:2005 Analyse chimique des surfaces -- Spectroscopie de photoélectrons par rayons X -- Répétabilité et constance de l'échelle d'intensité | 90.93 | ISO/TC 201/SC 7 |
| ISO/TS 25138:2010 Analyse chimique des surfaces -- Analyse de films d'oxyde de métal par spectrométrie d'émission optique à décharge luminescente | 60.60 | ISO/TC 201/SC 8 |
| ISO 27911:2011 Analyse chimique des surfaces -- Microscopie à sonde à balayage -- Définition et étalonnage de la résolution latérale d'un microscope optique en champ proche | 60.60 | ISO/TC 201/SC 9 |
| ISO 28600:2011 Analyse chimique des surfaces -- Format de transfert de données pour la microscopie à sonde à balayage | 60.60 | ISO/TC 201/SC 3 |
| ISO/TS 29041:2008 Mélanges de gaz -- Préparation gravimétrique -- Maîtrise des corrélations en composition | 90.93 | ISO/TC 158 |
| ISO/TS 29041:2008/Cor 1:2009 | 60.60 | ISO/TC 158 |
| ISO 29081:2010 Analyse chimique des surfaces -- Spectroscopie des électrons Auger -- Indication des méthodes mises en oeuvre pour le contrôle et la correction de la charge | 60.60 | ISO/TC 201/SC 7 |
